RTPCVD SiC ئۈزۈكيۇقىرى تېمپېراتۇرا ۋە چىرىتىش مۇھىتىدا سانائەت ۋە ئىلمىي ساھەدە كەڭ قوللىنىلىدۇ. ئۇ يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ياساش ، ئوپتىكىلىق ئېلېكترون ، ئېنىق ماشىنا ۋە خىمىيىلىك سانائىتىدە مۇھىم رول ئوينايدۇ. كونكرېت قوللىنىشچان پروگراممىلار:
1. يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ياساش:RTP CVD SiC ئۈزۈكيېرىم ئۆتكۈزگۈچ ئۈسكۈنىلەرنى قىزىتىش ۋە سوۋۇتۇشقا ، تېمپېراتۇرىنى مۇقىم كونترول قىلىشقا ھەمدە جەرياننىڭ توغرىلىقى ۋە ئىزچىللىقىغا كاپالەتلىك قىلىشقا بولىدۇ.
2. ئوپتىكىلىق ئېلېكترون: ئىسسىقلىق ئۆتكۈزۈشچانلىقى ۋە يۇقىرى تېمپېراتۇرىغا چىدامچانلىقى سەۋەبىدىن ، RTPCVD SiC ئۈزۈكلازېر ، ئوپتىك تالالىق ئالاقە ئۈسكۈنىلىرى ۋە ئوپتىكىلىق زاپچاسلارنى قوللاش ۋە ئىسسىقلىق تارقىتىش ماتېرىيالى سۈپىتىدە ئىشلىتىشكە بولىدۇ.
3. ئېنىق ماشىنىلار: RTP CVD SiC ھالقىسى يۇقىرى تېمپېراتۇرا ئوچاق ، ۋاكۇئۇملۇق ئۈسكۈنىلەر ۋە خىمىيىلىك رېئاكتور قاتارلىق يۇقىرى تېمپېراتۇرا ۋە چىرىتىش مۇھىتىدىكى ئېنىق ئەسۋاب ۋە ئۈسكۈنىلەرگە ئىشلىتىلىدۇ.
خىمىيىلىك سانائىتى: چىرىشكە چىدامچانلىقى ۋە خىمىيىلىك مۇقىملىقى سەۋەبىدىن ، RTP CVD SiC ھالقىسىنى قاچا ، تۇرۇبا ۋە رېئاكتوردا خىمىيىلىك رېئاكسىيە ۋە كاتالىزاتورلۇق جەرياندا ئىشلىتىشكە بولىدۇ.
Epi سىستېمىسى
RTP سىستېمىسى
CVD سىستېمىسى
مەھسۇلات ئۈنۈمى:
1. 28nm دىن تۆۋەن جەرياننى كۆرۈڭ
2. دەرىجىدىن تاشقىرى چىرىشكە چىداملىق
3. دەرىجىدىن تاشقىرى پاكىز ئىقتىدار
4. دەرىجىدىن تاشقىرى قاتتىقلىق
5. يۇقىرى زىچلىق
6. يۇقىرى تېمپېراتۇرىغا چىداملىق
7. قارشىلىق كۆرسىتىش
مەھسۇلات ئىلتىماسى:
كرېمنىي كاربون ماتېرىياللىرى قاتتىقلىق ، ئۇپراشقا چىداملىق ، چىرىشكە چىداملىق ۋە يۇقىرى تېمپېراتۇرا مۇقىملىقى قاتارلىق ئالاھىدىلىكلەرگە ئىگە. ئەلا سۈپەتلىك مەھسۇلاتلار قۇرۇتۇش ۋە TF / Diffusion جەريانلىرىدا كەڭ قوللىنىلىدۇ.
مەھسۇلات ئۈنۈمى:
1. 28nm دىن تۆۋەن جەرياننى كۆرۈڭ
2. دەرىجىدىن تاشقىرى چىرىشكە چىداملىق
3. دەرىجىدىن تاشقىرى پاكىز ئىقتىدار
4. دەرىجىدىن تاشقىرى قاتتىقلىق
5. يۇقىرى زىچلىق
6. يۇقىرى تېمپېراتۇرىغا چىداملىق
7. قارشىلىق كۆرسىتىش
بىرىكمە جەريان ئېچىش:
Graphite + Sic Coating
Solide CvD sic
گۇناھكار SiC + CVD
SicSintered SiC
كۆپ خىل مەھسۇلات تىپى ئېچىش:
ئۈزۈك
جەدۋەل
Susceptor
Shower Head
